Product
产品展示
“MPCVD”中文全称名叫“微波等离子体化学气相沉积”，MPCVD法的设备是制备高品质金刚石的培育设备。其工作原理是利用微波作为能量来源，在特定的反应气体条件下激发等离子体进行材料外延生长，微波系统将微波源产生的微波能量以特有的模式经矩形波导输出，通过模式转换器耦合进入圆柱形等离子体反应腔，在微波场的作用下，反应气体被激发为等离子体状态，等离子体是部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质，等离子体呈球状形成于金刚石衬底上进行外延生长。
系统参数
型号
GXC-601
GXC-6010
微波功率
6KW微波电源，2.45GHz
10KW微波电源，2.45GHz
反应腔
金属圆柱型反应腔（带水冷夹层）
密封方式
金属C型圈
标准气路
5路FMC气路（工艺进气压力：≥0.3MPa）
气路及最大流量
氢气 1000 sccm、 甲烷 100 sccm、
氮气 2 sccm、 二氧化碳20 sccm；
生长台类型
水冷水式生长台
标准衬底托
2英寸沉积面积
4英寸沉积面积
系统真空密封性（氦质谱检漏仪测试）
真空度（氦检）<1.0*10-9Pa.m3/sec
真空泵类型（标配）
17m3/h(50Hz)
32 m3/h(50Hz)
腔体极限真空度
0.1 Pa （真空腔保压能力：2mTorr/min）
工作压力范围
10-200torr
真空腔体温度范围
900±50°C
采用红外测温
测温范围 250～1400℃
微波泄露
≤ 5 mw/cm 2
冷却方式：
水冷流量：22L/min，冷却水供水压力：≥5.0 kg/cm 2）
冷却水温度
冷却水温度：15℃～20℃
CDA供气压力
≥0.4MPa；
供电电压：
三相AC380(1±10％)V，频率50Hz
操作系统
PLC控制系统
观察窗
侧面3个，大观察窗1个
系统尺寸
1.25 m(长)*0.75m(宽)*1.75m（高）
系统重量
400KG